當(dāng)雙85試驗箱腔室機械系統(tǒng)從一種狀態(tài)變?yōu)榱硪环N狀態(tài)時，溫度和濕度控制可能會進一步受到干擾。例如，一個斜坡步驟可能需要一個在高溫/低濕度下運行的腔室在“x"分鐘的跨度內(nèi)同時變?yōu)榈蜏?高濕度。

　　與人們可能認(rèn)為的相反，“冷卻"和“加濕"系統(tǒng)最初可能不需要運行，而是腔室控制系統(tǒng)簡單地減少加熱和除濕輸出，允許腔室進行受控漂移，遵循移動設(shè)定點溫度和濕度。

　　然而，在該斜坡步驟期間的某個時間點，減少加熱和/或除濕無法提供追逐設(shè)定點所需的響應(yīng)，并且控制器通過需要少量但穩(wěn)定增加的冷卻和加濕輸出來為腔室冷卻和加濕系統(tǒng)供電。在這些轉(zhuǎn)換期間，溫度或濕度控制的短期波動也很常見。

　　也可能存在循環(huán)配置文件的斜坡要求超過所使用的腔室能力的情況，但這些通常與腔室容量有關(guān)，而不是控制。